GalvanoTest 2000一般用法和測(cè)量原理

更新時(shí)間：2019-11-05

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GalvanoTest 2000一般用法和測(cè)量原理：
根據(jù)DIN 50955 / ISO 2177的電量分析法或電化學(xué)去鍍技術(shù)，適用于測(cè)量幾乎所有基材上的電鍍涂層，即：鋼，有色金屬以及絕緣材料（例如金屬）上的電鍍層鋼上的鎳，鋼上的鋅，銅上的錫，銅上的銀和環(huán)氧樹脂上的銅。該方法也適用于測(cè)量多層系統(tǒng)的各個(gè)涂層，例如鉻對(duì)鎳，銅對(duì)鋼。

測(cè)量原理基于法拉第定律。使用與電鍍方法相反的方法，從樣品中化學(xué)去除涂層。為此，將不銹鋼測(cè)量池放置在要測(cè)量的樣品上。電池充滿電解質(zhì)溶液，該電解質(zhì)溶液根據(jù)涂層/基體組合選擇。放置在樣品池和樣品之間的橡膠墊圈確定了測(cè)量區(qū)域，例如4平方毫米測(cè)量裝置電連接到電子處理單元。當(dāng)接通時(shí)，恒定電流流過電解質(zhì)以電化學(xué)方式電化學(xué)去除金屬涂層。在整個(gè)電鍍過程中，可以在測(cè)量單元和要測(cè)量的對(duì)象之間觀察到定義的電壓。一旦金屬涂層被*去除，就會(huì)出現(xiàn)特征電壓躍變。該電壓跳變被測(cè)量?jī)x記錄下來，以中斷電壓供應(yīng)并停止計(jì)時(shí)器。厚度立即以密耳或微米顯示。

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